杀菌用紫外线灯功率12KW

ORC紫外线照度计/光量计，型号： UV-351；

①測定範囲310～385nm（峰值355nm）②光量測定ｍJ/cm2（１）測定範囲０．１～１９９９９．０ｍJ/cm2（２）表示範囲１～１９９９９ｍJ/cm2（３）光量超出１９９９９ｍJ/cm2，４個小数点和単位（ｍJ/cm2）点灭（１）測定範囲０．１～１００mW/cm2（２）照度超出１００mW/cm2，４個小数点和单位（mW/cm2）会点灭。（３）设定计时测定通过背面开关和時間設定旋钮。１）计时時間１～１０秒２）機能照度、０．１mW/cm2以上的紫外线入力，设定时间计时动作开始、显示设定时间后照度。（４）自动保存峰值測定中的最大照度値。（HOLD点滅、ＤＡＴＡ点灯）④警報（１）温度本体内部温度高于60°时、４小数点和単位（℃）点灭。精度±３℃程度（２）电池电量低下，不能使用时，ＬＯＢＡＴ表示点灯。⑤受光素子图像二极管⑥使用温度範囲０～６０℃、无结露。⑦上記温度範囲，参考敝司ＵＶ標準精度：±１．５％以内⑧往复精度上記温度範囲内±１．５％以内⑨开机时间：电源开关ＯＮ1秒⑩電源按钮型锂電池（型式Ｍｎ０２－Ｌｉ３ＶＣＲ２４５０）⑪自动关机：照度0.1mW/㎝2以下約４分后電源OFF⑫本体寸法／重量約79（W）×160（D）×12（H）／約180g i线步进式光刻机NSR-SF140,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2D。杀菌用紫外线灯功率12KW

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的纳米级细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有高压汞灯，准分子激光器等。FX-803M紫外线灯UNL-12000B尼康NSR-2205i11D光刻机，解析度 ≤350nm 曝光功率 687.439mW 曝光均匀度 1.258 ％ 晶圆尺寸 8英寸 吞吐量 63wph 。

高压汞灯在工作时，灯球体内的汞蒸气压达100个保准大气压以上。汞蒸气压愈高，灯的亮度也越高，紫外线强度也越大，而且汞原子谱线宽度变大，分子连续谱与带电粒子复合光谱也更强，特别是595nm以上的红光辐射随灯内工作压强的升高而增强，从而使灯的显色性提高。为了克服由于电极处于极高温度造成钨材料蒸发并沉积在球壁上造成紫外线穿透率下降，光衰加速，从工艺设计上对灯内充入微量卤素，达到有效清洁泡壳的作用，进而可延长汞灯使用寿命。

UV/可視光硬化型接着剤を硬化させるように設定されたUVファイバー装置です。メンテナンス時のランプ交換が非常に簡単です。自動機組み込み用、または手作業用に対応可能です。0～100%まで自由自在な光量調整ができます。全世界フリー電源です。瞬時停電対応プログラム搭載です。UV(紫外線照射)ファイバー装置用ランプです。用途UV/VIS(紫外線/可視光硬化)接着剤の硬化に。UVファイバー HM88、HM66用メンテンスランプ。 仕様放射波長(250nm帯増強タイプ)240～400nm , 質量(g):28, 入力電圧(V):AC100～240、単相47Hz～63Hz 寿命約3000時間(365mm)表面硬化重視の場合はこの限りでありません。 位置ライトガイド接続口/操作パネル面、ランプ交換口/背面 主なワークパーツi线步进式光刻机NSR-SF150,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2D。

产品化无NOｘ产生的UV Lamp『智能准分子灯』作为臭氧发生动力（灯+电源）模块.臭氧存在与大气中，起到净化大气作用。大气中的氧气和太阳光中的紫外线反应或者雷的放电现象，自然生成。阳光充裕的海岸或森林，存在程度、制作出清爽的空气。臭氧的氧原子[O]3个结合后产物，化学式是[O3]。臭氧的氧原子比氧气原子多出1个的[O3]状态、余下的氧原子[O]给其它物质，引发返回稳定状态的氧分子现象。利用自然界发生的此性质，积极制作臭氧，进行脱臭，除菌，杀菌。强劲光明，金属卤素灯带你迈向更明亮的未来。日本进口紫外线灯AHD-8000PH

紫外线之光，半导体未来。杀菌用紫外线灯功率12KW

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软杀菌用紫外线灯功率12KW